日本大型半導體製造設備廠商東京電子宣佈，將於2021年1月發售清洗機「CELLESTA SCD」，該産品帶乾燥功能，可提高最尖端半導體的成品率。通過增加使用「超臨界流體」（基本沒有表面張力）的乾燥工序，防止半導體上的微細結構被破壞。這款清洗機將用於「微細化」和「多層化」的最尖端半導體製造，「微細化」是縮小電路線寬，「多層化」是在高度方向上層疊電路。

 

東京電子的清洗機「CELLESTA SCD」

 

       新産品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界乾燥專用反應室。將用於製造結構不斷微細化、複雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體記憶體DRAM。

        

       通過使用超臨界流體，可以降低乾燥時微細圖案結構被液體表面張力破壞的風險。新産品在乾燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。

 

       東京電子過去也採用表面張力低的酒精來進行乾燥，但存在最尖端的半導體在乾燥時圖案被破壞的課題。

 

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