日本主力化學企業ADEKA將在2023年度，把用於尖端半導體電路形成的材料的産能提高至目前的約2倍。將投入27億日元，在千葉工廠增建生産線。這種材料支援最尖端的半導體製造技術「EUV（極紫外）」光刻，受全球需求增加推動，將啟動增産。

  　　

　　在半導體晶圓上形成電路時需要使用光刻膠，ADEKA的材料會被混入光刻膠中使用。

　　　 

將進行增産的千葉工廠

 　　

　　在照射紫外線和紅外線之後，這種材料會産生使光刻膠凝固的酸。優勢是支援各種波長，ADEKA的全球份額僅次於排在首位的東洋合成工業。

 　　

　　極紫外光刻技術被用於製造電路線寬為7奈米以下的半導體，清除微細異物的品質管理也不可或缺。ADEKA此次還將引進能清除異物的設備。

  　　

　　極紫外光刻設備正被世界大型半導體廠商使用，相關材料的需求也在增加。

    　　　

 

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