日本特許廳（專利廳）和美國專利商標局將自2015年8月起，對在日美兩國提出的專利申請開展共同審批合作。日美當局將共用調查資訊，互相參考判斷結果，以大幅提高工作效率，加快審批過程。企業申請專利的所需時間也將縮短。目前，日本的專利審批需要10個月左右，今後將縮短至6個月左右。由於日美兩國的審批將同時結束，企業在兩國同時推出新産品將變得更加容易。

　　日美兩國專利當局最早於5月21日就共同審批框架達成共識。據稱，這將是日本特許廳首次與海外當局實行共同審批，在世界範圍內也尚屬首次。最初將以每年數百宗為上限，受理企業提出的同時審批申請，今後將逐步增加共同審批的受理數量。

　　如果能利用該框架，日本企業申請專利的環境將明顯得到改善。

　　以往，在進行專利審批時，需要調查過去是否存在同樣的發明，以及是否具有專利價值，之後由各國當局判斷是否授予專利權。此次日美將在專利審批方面共用資訊，比如作為重要審查資料的龐大論文資料庫和專利申請資料等相關資訊，從而提高工作效率。審批結果由兩國當局自主作出判斷，但事前會討論並綜合各自重視的要點，減少看漏類似發明，作出錯誤判斷的風險。

　　日本和美國在全球的專利申請和授予數目都非常多，此前也曾提出在世界範圍內率先開展合作。
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