半導體設備廠商東京電子（Tokyo Electron）1月20日舉行面向投資者的技術説明會，説明了技術開發等情況。該公司社長河合利樹提出想法稱，將積極推進研發等投資。隨著高速通信標準「5G」和人工智慧（AI）的普及，半導體需求正在增加，將應對這種情況。

       

河合社長將致力於積極構建研發體制

         

      東京電子計劃在始於2019財年（截至2020年3月）的3年裏對研發投資投入4000億日元。在半導體需求增加的背景下，河合社長透露稱「2020財年有望實現創歷史新高的營業收入」。

  

      高性能半導體的需求巨大，製造設備的投資正在擴大。日本半導體製造設備協會（SEAJ）統計顯示，日本造半導體製造設備的2020年度銷售額預計達到創歷史新高的2.33萬億日元。由於將電路線寬縮小至數奈米的微細化的進展，處理運算的邏輯半導體和半導體代工領域的投資活躍。

  

      隨著製造技術升級，設備的技術開發日趨重要。東京電子同一天説明了相應的主要設備開發和數據分析的利用案例。如果半導體邁向微細化，結構將變為細微和複雜，在清洗和乾燥工序，容易因清洗液的表面張力而導致損壞。

     

採用超臨界流體的清洗設備「CELLESTA SCD」

    

      為了解決這些課題，東京電子開發了採用沒有表面張力的「超臨界流體」的清洗設備「CELLESTA SCD」。

  

      如果利用超臨界流體，能減輕乾燥時細微的模式結構因液體的表面張力而損壞的風險。預計可以借此提高最尖端半導體的「成品率」。相關設備計劃應用於邁向微細化的DRAM和邏輯半導體的製造。

  

      在成為電路源的溝槽和孔洞的蝕刻設備方面，東京電子介紹了可以提高生産效率的「Episode UL」。該設備可以使處理晶圓的反應室「chamber」的數量在4個至12個之間自由變換，能配合工廠的佈局削減設置面積。

   

      東京電子還致力於數據分析，通過分析從製造設備獲得的感測器數據，使製程條件實現最優化。在材料的探索方面則將應用AI。有望取得同時優化製程條件和材料的效果，據稱這一方式正在應用於蝕刻金屬氧化物的材料的調查。

  

      此外，東京電子還具有通過AI來優化電漿體增強原子層沉積（PE-ALD）的製程等成績。解決了此前通過人力探索條件、難以找到最佳條件的課題。

 

      2020年11月，東京電子將軟體研發基地「TEL數位設計園區」轉移至日本北海道的札幌市，正在加強有助於DX（數位化轉型）的開發體制。

  

      世界的半導體設備市場受中美摩擦等影響，前景並不明朗，但根據目前的旺盛需求等，該公司認為在2022年度之前將持續增長。

   

      鑒於在家辦公的普及和線上服務的需求增加，數據中心投資有望進一步擴大。要提升競爭力、爭取需求，需要具備更高的技術。

  

      日本經濟新聞（中文版：日經中文網）佐藤雅哉

  

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