NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      在用於5G和自動駕駛的高性能半導體需求持續擴大的同時，最尖端半導體的投資成本也越來越高。東芝旗下的紐富來（NuFlare Technology）是一家大型電子束掩膜光刻設備製造商，其産品可在光掩膜上刻畫出精細圖案。關於市場需求動向和業務戰略，日本經濟新聞（中文版：日經中文網）採訪了紐富來社長杉本茂樹。

NuFlare Technology將擴充光刻設備的産品陣容

      記者：請介紹一下最尖端光刻設備的研發狀況。

      杉本茂樹：我們正在研究5奈米線寬、26萬束鐳射的多束光刻設備，但第一代産品很困難。想讓26萬束鐳射進行高速開閉，但不能穩定運作。本公司沒有將特殊的大型積體電路（LSI）與MEMS組合起來的技術，於是讓母公司東芝來研發。

      在我們的研發遲遲沒有進展期間，客戶的需求已經從5奈米升級到3奈米。現在正進行下一代設備的研發，在技術上與第一代有重疊的部分。雖然研發時費盡週折，但對下一代設備有幫助。

      記者：從4月起成為東芝的全資子公司，帶來了什麼效果嗎？

      杉本茂樹：雖然沒有什麼顛覆性的變化，但向母公司提出什麼請求時，回應變得更快了。研發體制也由25人擴充到180人。

      記者：會繼續走精細化的道路嗎？

      杉本茂樹：追求精細化是迄今為止的主要發展方向，但線寬不那麼精細的器件市場也在擴大。最尖端的半導體需要龐大的研發經費，能進行鉅額設備投資的企業並不多。與此同時，半導體的市場基礎在擴大。線寬上落後1～2代的設備的需求也在提高，我們將通過應對各種各樣的線寬來滿足客戶的需求。