NIKKEI——日本經濟新聞中文版

       日本佳能正通過光刻機加快搶佔高功能半導體市場。佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機，提高了生産效率。在用於純電動汽車（EV）的功率半導體和用於物聯網的感測器需求有望擴大的背景下，佳能推進支援多種半導體的産品戰略。目標是在三大巨頭壟斷的光刻機市場上確立自主地位。

       佳能將於2021年3月發售新型光刻機「FPA-3030i5a」，該設備使用波長為365奈米的「i線」光源，支援直徑從2英吋（約5釐米）到8英吋（約20釐米）的小型基板。解析度為0.35微米，更新了測量晶圓位置的構件和軟體。與以往機型相比，生産效率提高約17％。

佳能的光刻機

       新機型調整了測量晶圓位置的「校準示波器」的構成，與曝光工序分開設置了測量單元。通過同時進行縱橫兩個方向的測量而縮短了時間，並通過擴大測量光的波長範圍，實現了對難以識別標記的多層基板和透明基板的支援，而且能夠識別出晶圓背面的標記。

       除了目前主流的矽晶圓之外，新機型還可以提高小型晶圓較多的化合物半導體的生産效率。包括功率器件耐壓性等出色的碳化矽（SiC），以及作為5G相關半導體材料而受到期待的氮化鎵（GaN）等。隨著純電動汽車和物聯網的普及，高性能半導體的需求有望增加。

       在半導體光刻機領域，荷蘭ASML和日本的佳能、尼康3家企業佔據了全球9成以上的份額。在促進提升半導體性能的精細化領域，可使用短波長的「EUV」光源的ASML目前處於優勢地位。佳能光學設備業務本部副業務部長三浦聖也表示，佳能將根據半導體材料和基板尺寸等客戶製造的半導體種類來擴大産品線。按照客戶的需求，對機身及晶圓臺等平臺、投影透鏡、校準示波器三個主要單元進行開發和組合，建立齊全的産品群。

       佳能還致力於研發「後期工序」（製作半導體晶片之後的封裝加工等）中使用的光刻機。2020年7月推出了用於515毫米×510毫米大型基板的光刻機。以此來獲取把製成的多個晶片排列在一起、一次性進行精細佈線和封裝的需求。佳能還致力於「奈米壓印」（將嵌有電路圖案的模板壓在矽晶圓的樹脂上形成電路）光刻設備的研發。據悉還將著力開展新一代生産工藝的研發。

       日本經濟新聞（中文版：日經中文網）橋本剛志