NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      日本三菱化學計劃2021年在台灣新建新一代通信標準“5G”等半導體使用的高性能化學品工廠。由於與台灣廠商的交易量大，因此三菱化學決定在當地投資。整體産能將比現在提高5成。在半導體尖端材料方面，日本企業佔有優勢，但南韓和中國企業也在通過自主生産緊緊追趕，三菱化學將通過先行投資保持領先優勢。

三菱化學在台灣增産半導體清洗劑

      據統計，日本材料企業在半導體相關領域的全球份額超過5成。不過，目前南韓SK Materials已開始量産高純度氟化氫，中國化工集團也將最早在2021年新建半導體製造用的特殊氣體工廠。

      在國際競爭越來越激烈的背景下，三菱化學將在台灣的新竹市新建半導體製造使用的清洗劑工廠。清洗劑在祛除附著在硅晶圓等物體上的微小雜質等工序中使用。臺積電（TSMC）是其主要客戶，向尖端産品的製造工序供貨。預計投資額為十幾億日元。

      三菱化學在半導體材料方面，擁有可滿足純度及客戶細節要求的高水準生産技術。隨著通信高速化等，半導體需求預計將擴大，在這種背景下，將通過對高性能産品的投資來應對中韓企業的崛起。