NIKKEI——日本經濟新聞中文版

　　日本富士底片公司與住友化學將於2021年以後涉足新一代半導體材料業務。這是在高性能小型半導體的最新生産工序中使用的材料，富士底片在減少殘次品的技術上擁有優勢。新材料的供應增加將讓量産尖端半導體更加容易。智慧手機等電子設備有望進一步實現小型化和省電化。

　　尖端半導體生産技術被稱為「EUV（極紫外線）」光刻，使用特殊光線將微細電路轉印到基板上。新材料可用作此時的感光材料。　

富士底片

　　富士底片將投資45億日元為靜岡縣的工廠引進設備，最早2021年內開始量産。新材料在轉印後的工序中不易殘留異物，可減少殘次品。電路設計也將變得輕鬆。住友化學也將在2022年度之前在大阪市的工廠構建從開發到生産的一條龍體制。將利用其在傳統型感光材料市場上佔有的高份額，已有大型半導體廠商決定採用新材料。

　　美國蘋果將在最新款手機的半導體上使用極紫外光刻技術。台積電正在推進相應尖端半導體的量産和細微化。新材料的普及有助於提高半導體的性能。

　　在半導體的細微化方面，目前最先進的是5奈米技術，台積電等企業的目標是3奈米。三星電子和英特爾也在應對極紫外光刻技術，加緊推進細微化。

　　在極紫外線使用的感光材料方面，日本企業掌握了全球約9成份額，JSR和信越化學工業處於領先地位。除了富士底片等之外，南韓企業也在尋找涉足該領域的機會，今後圍繞感光材料的競爭或將更加激烈。