NIKKEI——日本經濟新聞中文版

接受採訪的美光科技CEO桑喬伊•莫羅特亞（5月18日上午，東京都千代田區）

      美國半導體存儲晶片製造商美光科技公司將在今後數年向日本廣島縣的DRAM工廠等日本國內最多投資5000億日元。在日本政府的支援政策下，美光將在廣島縣的工廠引進最尖端的生産線。美光首席執行官（CEO）桑喬伊·莫羅特亞(SanjayMehrotra)在接受日本經濟新聞（中文版：日經中文網）的採訪時透露了上述消息。還計劃引進尖端的光刻設備，生産下一代的存儲晶片。

      5月18日，美國、南韓和台灣等國家和地區的半導體企業首腦訪問日本。18日上午，莫羅特亞與日本首相岸田文雄進行了面談。莫羅特亞表示：「我們將在日本國內首次引進極紫外（EUV）光刻設備，自2026年左右開始生産最尖端産品」。美光到2025年將向日本引進極紫外光刻機，完善相關體制。他並未透露日本政府的具體援助金額。