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東京電子開發半導體新設備應對細微化

2021/01/25

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半導體

      在成為電路源的溝槽和孔洞的蝕刻設備方面,東京電子介紹了可以提高生産效率的「Episode UL」。該設備可以使處理晶圓的反應室「chamber」的數量在4個至12個之間自由變換,能配合工廠的佈局削減設置面積。

   

      東京電子還致力於數據分析,通過分析從製造設備獲得的感測器數據,使製程條件實現最優化。在材料的探索方面則將應用AI。有望取得同時優化製程條件和材料的效果,據稱這一方式正在應用於蝕刻金屬氧化物的材料的調查。

  

      此外,東京電子還具有通過AI來優化電漿體增強原子層沉積(PE-ALD)的製程等成績。解決了此前通過人力探索條件、難以找到最佳條件的課題。

 

      2020年11月,東京電子將軟體研發基地「TEL數位設計園區」轉移至日本北海道的札幌市,正在加強有助於DX(數位化轉型)的開發體制。

  

      世界的半導體設備市場受中美摩擦等影響,前景並不明朗,但根據目前的旺盛需求等,該公司認為在2022年度之前將持續增長。

   

      鑒於在家辦公的普及和線上服務的需求增加,數據中心投資有望進一步擴大。要提升競爭力、爭取需求,需要具備更高的技術。

  

      日本經濟新聞(中文版:日經中文網)佐藤雅哉

  

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