NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      佳能將在栃木縣新建半導體設備工廠。總投資額超過500億日元，産能將提高至現在的2倍，力爭2025年春季投入運作。新工廠將增産光刻設備，還計劃開發以低成本製成尖端微細電路的新一代設備。日本也出現了半導體産業技術創新的全面投資計劃。

佳能的光刻機産能將翻番

      光刻是半導體電路形成不可或缺的核心技術。佳能目前在宇都宮事務所（宇都宮市）和阿見事務所（茨城縣阿見町）等2處國內工廠生産半導體光刻設備。佳能的製造設備被用於製造汽車控制等的半導體。

      宇都宮事務所內的約7萬平方米空地上將時隔20年建設半導體光刻設備的新工廠。包括廠房建設費用和生産設備在內的總投資額預計達到540～560億日元左右，將於2023年內開工建設。

      世界半導體貿易統計組織(WSTS)的統計顯示，2021年全球半導體市場規模超過5000億美元。佳能預測2022年半導體光刻設備的銷量比上年增長29％，增至180台，最近10年內激增至4倍。建設新工廠後，2個基地的總産能將增至約2倍。

      新工廠力爭2025年投産，還將推進新一代設備的開發。利用被稱為“奈米壓印” （nano-imprint）的技術，能夠實現低於此前光刻工序的成本。該技術像蓋印章一樣描畫電路，製造工序簡單，能減少設備投資額。由佳能主導，鎧俠株式會社(KIOXIA Corporation）和大日本印刷參加了開發。

      隨著高度自動駕駛技術的普及，線寬更加微細的半導體的需求正在增加。