NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      日本半導體製造設備大型企業東京電子（Tokyo Electron）6月8日發佈計劃稱，將向同行業的荷蘭ASML和比利時的研究機構imec聯合運營的實驗室供應新一代設備。該設備將與ASML生産的屬於尖端光刻設備的「EUV（極紫外）光刻設備」的新一代産品進行組合。東京電子將自研發階段開始攜手半導體微細化技術的領跑企業，以提升開發競爭力。

全球目前只有荷蘭ASML能生産極紫外(EUV)光刻設備

      東京電子將供應設備的對象是ASML和imec聯合運營的「imec-ASML高NA EUV實驗室」（位於費爾德霍芬市）。該實驗室在縮小半導體電路線寬的微細化技術研發（R&D）方面具備世界頂尖水準。

      東京電子將提供在半導體晶圓上塗佈感光劑（光刻膠）使之顯影的「塗佈顯影設備(Coater Developer)」。這是東京電子首次向上述實驗室提供設備。將通過涉足最尖端半導體的研發，提升競爭優勢性。

      據調查公司GlobalNet（位於東京中央區）統計，東京電子在塗佈顯影設備市場掌握近9成的全球份額。在面向EUV光刻設備方面，東京電子擁有100％的份額。

      在共同研究方面，將把ASML的新一代EUV光刻設備和東京電子的塗佈顯影設備組合為一體，提高半導體的生産效率。東京電子最早將於2022年上半年提供自己的設備，組合起來的設備則計劃最快於2023年投入使用。

東京電子和imec的簽字儀式

      在半導體的微細化方面，現在將線寬縮小至5奈米的半導體已投入量産。半導體的世界級廠商台積電（TSMC）在微細化方面走在行業最前列，向美國蘋果的智慧手機「iPhone12」等供應半導體晶片。