NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      日本政府3月31日發表了半導體製造設備貿易管制規則。涉及對象為成膜和清洗工序使用設備的尖端産品等，預計Tokyo Electron（TEL）和SCREEN控股等十幾家日本企業將受到影響。雖然出口量較大的非尖端産品用設備不在管制對象之列，但遭到中國的強烈反對。中國是在日本半導體設備出口對象國家中佔比達到4成的最大市場。摩擦和業務萎縮趨勢也有可能在貿易管制範圍之外的商業領域擴大。

      「我們做出了各種各樣的設想，但比預想的更難理解」，日本一家大型半導體製造設備生産企業的相關負責人感到困惑。31日上午省令修正案公佈之後，該企業的相關負責部門開始著手進行解讀，當日下午做出了判斷，認為「需要花費數日時間才能計算出管制強化對業績造成的影響」。

      此次的貿易管理規則涉及的對象是在半導體製造中負責形成電路等的製造工序「前製程」所需要的6大類的23個品類。向友好國家和地區以外的其他國家出口時，需要得到日本經濟産業相的許可。

      對於日本來説，需要獲得許可的對華出口是非常重要的業務，正因為如此，各企業的相關負責人才會在應對上大傷腦筋。

      聯合國國際貿易中心的統計顯示，日本2021年向中國本土出口的製造設備達到約120億美元，金額佔出口到全世界的設備的近4成，在所有地區中最高。出口額是美國對華設備出口的近2倍。

      Tokyo Electron在被列為管理品種的成膜設備中擁有很高的市佔率，在該公司2021年度的銷售額中，中國佔26％。同樣被認為屬於管制對象的「ArF液浸曝光設備」的生成企業尼康表示，2022年度銷售的5台産品中「至少有1台面向中國」。

      此次的管制規則不包括對華設備出口中的非尖端産品。省令規定了每種設備的技術條件，從用途來看，用於運算的邏輯半導體的管制標準是10～14奈米（1奈米為十億分之一米）以下的技術。

  美國的管制更詳細

      符合技術條件的設備只要獲得許可，也可以出口。生産超微細加工使用的「EUV曝光」相關檢測設備的Lasertec表示，「如何操作還存在不明朗的部分」，「將從相關省廳和業界團體等收集資訊，採取應對措施」。

      製造設備廠商頭痛的源頭是技術條件的「範圍」。日本某成膜設備廠商的相關人士指出「與美國的規定相比，日本的規定含糊不清」。規定清洗設備及成膜設備的省令文件「還可以解讀為就連非尖端産品也在限制之列」。從日本政府強調「（貿易管理的）影響是有限的」來看，在運用過程中將只叫停尖端産品。