NIKKEI——日本經濟新聞中文版

　　在半導體新技術開發的難度提高的背景下，東京電子將加強與外部組織合作。將參加比利時研究機構IMEC主導的聯盟，與荷蘭阿斯麥（ASML）等涉足半導體設備的大型企業推進新的製程開發。為了實現把電子電路線寬降至數奈米的微細化，在半導體生産的各領域擁有世界最尖端技術的企業將展開合作。

　　東京電子將在2022年內向IMEC提供在半導體晶圓上進行感光劑（光刻膠）塗佈和顯影的新型「塗佈顯影設備（Coater Developer）」。在塗佈顯影設備領域，東京電子的份額全球居首。計劃在IMEC和ASML運營的荷蘭的研究所，搭配新一代EUV（極紫外）光刻設備使用。

　　現在採用EUV光刻設備、線寬為5奈米的半導體已實現量産。東京電子將與IMEC和ASML展開合作，開發進一步縮小線寬的尖端製程。

　　東京電子的執行董事秋山啟一表示，「不僅是製程改良，在成本方面對新一代EUV的期待也很高」。據稱力爭通過開發新一代光刻系統，在2025～2026年之前實現1奈米線寬級別半導體的量産化。

　　東京電子向IMEC派遣技術人員

　　東京電子此前一直與IMEC攜手開發尖端製程。自1995年首次向IMEC供應設備以來，在人才方面也展開交流，例如向IMEC派遣了東京電子的熊本工廠和美國基地的大量工程師。

位於比利時魯汶市的研究機構IMEC的總部

　　IMEC攜手半導體設備企業和零部件企業等推進製程開發，並把獲得的各種數據分享給屬於會員的半導體企業。東京電子也把這些數據應用於新設備開發。秋山表示，「能取得EUV數據的機會有限，與IMEC的合作非常寶貴」。

　　ASML也強調在開發EUV光刻新技術的過程中，與IMEC和東京電子等涉足周邊製程的設備企業展開合作的必要性。ASML表示，「與客戶、供應商和技術夥伴展開合作，將實現開放式創新」。ASML在光刻設備領域掌握全球9成份額，在強大競爭力的背後存在著與外部組織積極合作的體制。