半導體製造設備迎來換代潮
2020/03/10
隨著最尖端的極紫外線光刻設備的普及,周邊的半導體製造設備和原材料領域也將發生更新換代。
其象徵是涉足測試設備的日本Lasertec公司。該公司2019年在世界上首次使檢測極紫外線光掩膜缺陷的設備實現實用化,股價在1年裏漲至4倍。
光掩膜是起到猶如照片「底片」的作用的零部件。如果出現細微的缺陷等,半導體的電路就無法正常形成。Lasertec的檢測設備每台高達80多億日元,但贏得了大型企業的積極洽購。Lasertec預計2020財年(截至2020年6月)的合併凈利潤比上年增長69%,達到100億日元。
此外,大型半導體製造設備廠商東京電子和SCREEN控股也將增加應對極紫外線的設備的供貨。電路越是變得微細,成形和清洗等越困難。東京電子等希望與半導體廠商攜手開發新一代製造設備、提高市佔率,甩開競爭對手。
與此同時,行業重組的氛圍也在加強。豪雅(HOYA)2019年12月對東芝的上市子公司、涉足半導體製造設備的NuFlare Technology嘗試發起敵意TOB(公開要約收購)。雖然最終並未成功,但在大型半導體廠商加速採購極紫外線相關設備的背景下,豪雅希望借助收購提升乘積效應。
半導體製造工藝的進步將加快相關企業的優勝劣汰。在20世紀,尼康和佳能憑藉舊方式的光刻設備席捲世界。但2000年代它們在與ASML的競爭中落敗。因在極紫外線方式的開發競爭中失敗而撤退。
台積電和三星電子正在利用極紫外線光刻設備量産線寬7奈米的半導體。一方面,英特爾在上一代10奈米産品的量産化方面耽誤了時間。即使是在半導體3強之中,晶片的開發競爭也在産生差距。各廠商2020年增加設備投資是對更新換代充滿危機感的證明。
新型冠狀病毒成為增長的包袱
有可能對半導體的增長造成打擊的是新型冠狀病毒疫情。
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