NIKKEI——日本經濟新聞中文版

　　佳能面向繪製半導體電路不可或缺的光刻工序，推出了搭載自主 “奈米壓印（Nano-imprint）”技術的設備。跟利用強光在晶圓上燒刻電路的普通方法不同，奈米壓印的原理是像印章一樣壓印原版。由於可以降低成本和耗電量，因此備受半導體廠商期待。日本經濟新聞（中文版：日經中文網）記者採訪了佳能的半導體機器業務部長岩本和德，請他介紹了技術優勢、課題及業務預期。

岩本和德

　　記者：奈米壓印是什麼樣的技術？

　　岩本和德：就是把刻有半導體電路圖的掩膜壓印到晶圓上。在晶圓上只壓印1次，就可以在合適的位置形成複雜的二維或三維電路。如果改進掩膜，甚至可以生産電路線寬為2奈米的産品。

　　特點是設備構造簡單。與使用很多透鏡，一邊照射光一邊燒刻電路的傳統方法相比，耗電量降至10分之1。設備價格也相對便宜，可以低成本實現半導體微細化。

　　由於可以1次形成三維電路，還可以用於生産需要微細化到幾十奈米的XR（虛擬現實·增強現實·混合現實等的總稱）用超透鏡（Metalens）等。

　　記者：客戶的成本實際降低多少？

　　岩本和德：（客戶的成本）因條件而異，據估算1次光刻工序需要的成本有時降至傳統光刻設備的一半。（奈米壓印）設備的規模減小，在研發等用途也方便引進。

佳能推出的奈米壓印半導體生産設備

　　記者：此次發售的經過是什麼樣的？

　　岩本和德：從2017年左右開始，我們與鎧俠（Kioxia，當時是東芝記憶體）和大日本印刷3家公司持續進行合作開發。大日本印刷負責生産掩膜，鎧俠在四日市工廠等驗證把設備用於生産快閃記憶體。

　　量産用途的實用化已有眉目，我認為可以面對客戶銷售。在3家公司以外，也將增加從事奈米壓印開發和生産的合作夥伴，希望擴大生態系統。

　　記者：奈米壓印光刻設備有其他競爭公司嗎？

　　岩本和德：面向半導體光刻，開展奈米壓印設備業務的在全世界只有我們公司，準入門檻很高。我認為奈米壓印的難度在於重疊精度。需要在晶圓上定位以準確重疊掩膜，本公司通過以往的光刻設備培育的測量技術發揮了作用。