NIKKEI——日本經濟新聞中文版

　　記者：有客戶來諮詢嗎？

　　岩本和德：收到了半導體廠商、大學、研究所的很多諮詢。這些機構為了早日實現微細化而進行研發，但引進EUV（極紫外線）光刻設備需要龐大成本，作為替代措施奈米壓印備受期待。不僅是快閃記憶體，還有（用於個人電腦等的）DRAM及邏輯等多種半導體用途的需求。

　　記者：奈米壓印實現普及面臨的課題是什麼？

　　岩本和德：壓印時容易産生叫做粒子的垃圾。需要提高去除微小粒子垃圾的技術。將通過高精度過濾器和空氣幕控制垃圾。

　　能在多大程度上延長掩膜壽命也很重要。製作微細掩膜的工作最難，生産掩膜需要時間和成本成為課題。另外，使用時如果有垃圾進入，掩膜就會破損。因此，我們公司也開發了製作量産用途使用的複製品掩膜的設備。 

　　記者：今後如何進行技術革新？

　　岩本和德：將使用客戶半導體工廠引入的演示機，在現場持續改善掩膜和材料。為了能在量産中高效使用，需要與客戶協調一致。在得到結果反饋的同時，提高水準。

　　記者點評 量産實用化仍存在課題

　　佳能的奈米壓印技術在半導體生産的核心“光刻工序”中颳起新風。半導體的歷史可以説是電路圖微細化的歷史，決定電路線寬的光刻設備也反覆改變“遊戲規則”。 

　　透鏡和光學技術出色的日本佳能和尼康在2000年代曾是佔世界光刻設備市場大部分的豪強。但荷蘭ASML開發出利用名為“極紫外線”的短波長的EUV光刻設備，EUV成為尖端半導體光刻的主流。設備廠商也自然分化，佳能主要面向功率半導體等成熟産品。

　　奈米壓印有將技術實力提高到EUV線寬水準的餘地，佳能有可能在“成熟和尖端”半導體設備領域都擴大市場。與使用強光的傳統光刻相比，奈米壓印理論上可以實現低成本、低能量的微細加工。

　　佳能押注其他公司沒有的奈米壓印的優勢，持續進行投資。經過10年終於上市銷售，剛剛打開了實用化的大門。但現場的質疑聲也很強烈，比如有半導體廠商高管説：“掩膜的垃圾容易進入，實現量産實用化還有障礙”等。佳能需要對整個供應鏈進行研發並實現突破。

　　記者為日本經濟新聞（中文版：日經中文網）松浦奈美