NIKKEI——日本經濟新聞中文版

      各企業加快EUV設備開發的背景是，南韓三星電子和臺積電（TSMC）等展開的微細化競爭。面向5G等高性能半導體的需求旺盛，兩家企業正在爭奪每台超200億日元的ASML光刻機。在這一過程中，周邊的製造設備企業的商機也在擴大。

      國際半導體設備與材料協會（SEMI）和日本半導體製造裝置協會（SEAJ）的統計顯示，日本造的半導體製造設備的市場份額2019年為31.3％，在過去約20年內徘徊在3成左右。

      在光刻設備領域，此前尼康和佳能曾席捲世界市場，但在與ASML的競爭中失敗，在EUV開發方面掉隊。在半導體領域，隨著製造流程變得困難，贏家通吃的傾向不斷加強。以EUV為契機的代際更疊還將加速設備企業的優勝劣汰。

      設備流通停滯 市場擴大蒙陰影

      “中國市場的尖端設備投資已經停止”，EUV相關零部件企業的負責人唉聲嘆氣。由於荷蘭政府不予批准，ASML一直無法向中國出口EUV光刻機。此外，周邊設備和零部件的洽購也處於停止狀態。

      背後存在中美的貿易摩擦。如果無法進口ASML的設備，中國的半導體廠商將在微細化競爭中落後。中國政府提出到2020年半導體自給率達到40％、2025年達到70％的目標，但處於難以實現的局面。很多觀點認為，美國向荷蘭政府施加壓力，將其用作制裁的武器。

      國際半導體設備與材料協會的統計顯示，2019年的半導體製造設備市場規模為597億美元，比2014年增長59％。在此期間提升存在感的是中國市場，佔世界整體的份額從2014年的11.6％提高至22.5％。對日本的半導體製造設備企業來説，中國已成為難以忽視的市場。

      EUV的技術開發難度大，各企業的研發成本都在膨脹。如果市場不再擴大，企業的投資回收將推遲，新技術的開發有可能難以推進。

      日本經濟新聞（中文版：日經中文網）廣井洋一郎

小資料   EUV（極紫外）光刻機：從2019年起被大型企業正式採用的最尖端的半導體製造設備。只有荷蘭的ASML在世界上實現量産。半導體的電路線寬越細小，處理能力越高。如果使用EUV，能使線寬降至7奈米以下。5奈米的半導體與10奈米相比，按單純計算可在相同面積上配備4倍的電晶體。