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半導體摩爾定律之後日本企業的商機

2022/06/21

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半導體

    

      困境和良機是互為表裏的關係。2種三維整合技術已在各個階段推進開發和採用。為了確立新製程,此前附加值相對較低的後工序的重要性提高,同時成熟的設備和技術重新涌現商機。在新技術之下,日本企業能否提高存在感,影響“後摩爾時代”的技術開發已經拉開競爭大幕。

 

      日本企業的新商機

 

      在元件的結構變化和晶片堆疊等新技術上,製程的複雜性變得更高,要求精度也隨之提高。對於在製造設備領域掌握近3成份額的日本企業來説,出現了很多存在新商機的領域。

 

  

      “環繞式柵極技術(GAA)結構需要先進的製程技術”,東京電子企業創新本部的本部長助理關口章久如此表示。成膜和蝕刻不斷增加複雜性和製程數量,東京電子在各種設備領域掌握著3~4成市場份額,將迎來商機。

 

      除了奧爾巴尼之外,東京電子還與阿斯麥等企業合作,將在與新一代光刻相關研發等領域展開活動。東京電子的競爭對手包括美國泛林研發公司(Lam Research)等大型企業,尖端技術開發的成敗將影響未來的商機。

 

      對於晶片堆疊來説,後工序的技術成為關鍵。在使半導體背面變薄的“研削機(Grinder)”領域,日本迪思科(DISCO)佔全球份額的一半,而在尖端半導體的封裝基板領域,揖斐電和新光電氣工業壟斷了市場份額。

 

      成熟的技術領域也將出現新商機。在晶片堆疊時用於連接的零部件領域,佈線的形成需使用與硅基板不同的特殊光刻設備。佳能在尖端封裝的佈線光刻設備領域掌握著市場份額的大部分。

 

      日本經濟新聞(中文版:日經中文網)江口良輔、福島悠太

 

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報道評論

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